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水质自动监测微型站依托试剂反应与光学检测实现水质参数分析，其内部管路、反应单元及检测模块易受试剂残留、样品杂质影响，需通过系统化清洗维护保障设备性能与数据可靠性。清洗维护需遵循 “分类清洁、循序渐进” 原则，覆盖设备核心组件，消除污染干扰，延长设备使用寿命。 
管路系统清洗需优先开展，避免杂质堵塞与交叉污染。需定期使用去离子水冲洗进样管路、试剂管路及废液管路，冲洗时间不少于 10 分钟，确保管路内残留样品与试剂彻底排出。针对易结晶试剂流经的管路，需采用专用清洗液浸泡，溶解管路内壁附着的结晶物，浸泡后用去离子水反复冲洗至中性。清洗过程中需检查管路连接处密封性，若发现渗漏需及时更换密封件，防止清洗液或样品外溢。 反应单元清洗需注重去除试剂残留与生物附着。反应池作为试剂反应核心区域，每次检测完成后需自动启动清洗程序，先用去离子水冲洗 3 次，再注入专用清洗试剂浸泡 5-8 分钟，溶解残留的反应产物与生物膜，最后用去离子水冲洗至检测池内壁无明显污渍。清洗后需开启搅拌装置，检查搅拌叶片是否灵活，若发现叶片附着杂质需手动拆卸清洁，确保搅拌均匀性不受影响。同时需定期检查反应池透光窗，用柔软无尘布擦拭窗面，去除污渍与水雾，避免影响光学检测精度。 检测模块清洗需聚焦光学部件与传感器维护。光学检测器的光源与检测器窗口易积累灰尘与试剂雾滴，需每周用压缩空气吹除表面浮尘，再用酒精棉球轻轻擦拭窗口，保持光学通路洁净。若设备搭载辅助传感器（如温度、pH 传感器），需同步清洁传感器探头，去除表面附着的污染物，清洁后需进行传感器校准，确保辅助参数测量精准。此外，需定期检查检测模块电路连接情况，清除接口处的灰尘，防止接触不良导致检测故障。 清洗维护完成后需进行性能验证，通过检测标准样品确认设备测量精度，若精度偏差超出允许范围，需重新开展清洗与校准工作。同时需记录清洗维护时间、内容及设备状态，建立维护档案，为后续维护计划制定提供依据，确保微型站持续稳定运行。
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