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数字余氯传感器是水质消毒效果监测的核心设备,其检测精度依赖探头表面的清洁度。不同水质环境中,传感器易受泥沙、有机物、盐类等污染物附着影响,需结合水质特性制定差异化清洁策略,避免因清洁不当导致数据偏差或设备损坏。 一、清洁水体(如饮用水、纯净水):基础维护防微量污染 清洁水体中杂质含量低,但仍存在微量有机物与微生物附着风险。清洁需遵循 “定期轻护” 原则:建议每 14-21 天进行一次基础清洁,用软质海绵蘸取去离子水轻轻擦拭传感器探头(含电极与光学窗口),去除表面微量沉积物;每月开展一次深度清洁,将探头浸泡于 5% 稀盐酸溶液中 10-15 分钟,溶解可能附着的微量矿物质垢,随后用去离子水反复冲洗至 pH 中性。清洁后需校准零点,确保检测基线稳定,避免残留溶液影响读数。同时,需检查探头密封圈是否完好,防止水体渗入内部电路,维护周期可根据水质透明度适当调整,透明度越高可适当延长清洁间隔。 二、高浊度水体(如地表水、污水处理厂出水):高频清洁防泥沙沉积 高浊度水体中泥沙、悬浮颗粒含量高,易快速沉积于传感器探头表面,遮挡检测区域。清洁需突出 “高频除垢”:建议每 3-7 天进行一次常规清洁,使用专用尼龙毛刷(刷毛硬度≤50 Shore A)沿探头表面单向刷洗,清除泥沙堆积,避免来回摩擦划伤探头;每次清洁后用高压水枪(水压≤0.2MPa)以 45° 角冲洗探头缝隙,确保无颗粒残留。每周需拆解探头保护罩,清洁内部导流通道,防止泥沙堵塞水流路径影响检测效率。此外,可在传感器外部加装滤网(孔径 50-100μm),减少大颗粒杂质接触探头,滤网需与传感器同步清洁,避免滤网堵塞导致水流不畅。 三、高有机物水体(如景观水、工业有机废水):针对性清洁防生物黏附 高有机物水体中藻类、微生物及腐殖质含量高,易形成黏性生物膜附着于探头表面,干扰检测信号。清洁需侧重 “除膜杀菌”:每 7-10 天进行一次生物膜清除,将探头浸泡于 10% 次氯酸钠溶液中 20 分钟,破坏生物膜结构,随后用软毛刷轻刷探头表面,去除脱落的黏附物;清洁后需用去离子水彻底冲洗,避免次氯酸钠残留影响余氯检测结果。每 2 周需进行一次杀菌处理,将探头浸泡于 0.5% 过氧化氢溶液中 30 分钟,抑制微生物滋生,随后校准传感器灵敏度。清洁过程中需避免使用腐蚀性强的清洁剂,防止损坏探头涂层,影响检测精度。 四、高盐度水体(如海水、盐湖水):防盐垢与腐蚀双重防护 高盐度水体中盐类浓度高,易在探头表面形成盐垢,且盐雾易腐蚀金属部件。清洁需兼顾 “除垢防腐”:每 5-10 天进行一次盐垢清洁,用软布蘸取饱和柠檬酸溶液擦拭探头,溶解盐垢(擦拭时间≤5 分钟),随后用去离子水冲洗干净;每月开展一次防腐维护,在探头金属接口处涂抹专用硅基防锈油,防止盐雾腐蚀导致接口松动。清洁后需检查探头电极电位,若电位漂移超出允许范围,需重新进行两点校准(零点与满量程)。此外,传感器外壳需选用耐盐腐蚀材质(如 316L 不锈钢),维护时需检查外壳是否有腐蚀斑点,及时更换受损部件。 不同水质环境下的清洁策略需结合实际监测数据动态调整,清洁后需记录探头状态与校准结果,形成维护档案,确保数字余氯传感器长期稳定运行,为水质消毒效果评估提供精准数据支撑。
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